• 光学元件上的介电涂层
• 镀膜滤光片
• 晶圆上的半导体制造
• 液晶器件装置
• 聚合物薄膜 该仪器基于多反射光束的干涉光谱进行分析，产品的最大优势在于通过顶部光源进行向下垂直测量，顶部的光源照射更容易进行对准光束，能够进行非接触式的光学测量功能，可测量各种多层光学薄膜和涂层的厚度，包括折射率和吸收率。拥有nm测量精度高，操作方便，比传统的椭圆偏振仪容易操作，是薄膜研究、涂层行业和半导体制造行业必不可少的设备。
可进行的测量功能：
Ø 基材折射率和吸收率评估
Ø 膜厚测量，均值和标准差
Ø 膜材料的折射率和吸收率评估
Ø 保存测量的光谱相关反射率数据
Ø 加载先前保存的反射率数据
Ø 测量结果统计
Ø 友好的光标控制显示测量结果
Ø 灵活选择计算波长范围
Ø 灵活选择厚度范围以最大程度地减少计算时间
Ø 从随附的数据库中方便地选择薄膜和基材材料进行导入
整个薄膜测量系统包括：
一台薄膜测量主机（110V-240V AC输入）
包括钨卤素灯光源和带有USB接口的基于PC的光学微型光谱仪
• 光束传输，投射和接收光纤电缆和光学组件
• 新的Span薄膜测量软件版本5.1
• 一块标准反射率硅晶片
• 一个标准厚度样品
• PC要求：ClockR>800MHZ，AM> 1GB，Windows 2000，XP
• 选配: C-mount接收器以及长光纤显微镜 (TF-169M)
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