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卷对卷磁控溅射薄膜沉积系统
    发布时间: 2020-01-05 22:02    
卷对卷磁控溅射薄膜沉积系统
柔性可穿戴设备是现今电子产品发展的一大趋势，高质量功能性薄膜作为器件中不可替代的一部分显得尤为重要，通常该类薄膜主要由磁控溅射、热蒸发等方式完成。磁控溅射是一种成熟高效的薄膜沉积技术，已经广泛应用于科学研究以及工业生产。而该卷对卷磁控溅射系统是面向小批量试生产以及工业量产客户提供的高效率薄膜沉积系统，可用于透明导电层（ITO, ZnO等）、光学薄膜（SiO2, SiOx, NbOx etc）以及金属薄膜（Cu, Ag, Al, etc）等功能性薄膜的沉积。



针对不同的应用需求，系统可选配不同磁控模块，包括非平衡磁控溅射模块 (Unbalanced Magnetron Sputtering)、双磁控溅射模块 (Dual Magnetron Sputtering)以及旋转磁控溅射模块 (Rotary Magnetron)等等。



为解决部分基底对沉积材料的低附着力问题，进一步提高薄膜性能，系统提供等离子处理模块，可用于薄膜沉积前的表面处理。



该卷对卷磁控溅射系统可定制化程度高，最宽支持2000mm的有效镀膜宽度，可选配不同模块以满足生产需求。系统还可根据需求和现有产线结合，最大程度上提高客户的生产效率，是大面积柔性功能薄膜沉积的不二之选。