天枢微科电流体打印技术专注于电液动力学（EHD）技术研发与应用，推出的电流体打印设备系列，以非接触式材料沉积技术为核心，实现飞升级别材料操控。无论是跨分辨率微纳制造，还是高粘度材料精准打印，我们都能提供兼具工业级稳定性与高性价比的解决方案，广泛服务于微纳米制造、光电显示、柔性电子、传感器等前沿领域。

本技术为融合电场诱导射流与微驱动技术，通过高频振荡实现飞升级别材料的精准沉积。其核心逻辑是：在打印喷头与基板间施加高压电场，使喷头端口的流体在电场力、表面张力、粘滞阻力的协同作用下，形成泰勒锥并拉伸为纳米至微米级射流，最终精准沉积于基底表面，突破传统打印技术的精度与效率极限。

（示意图说明：展示毛细管喷嘴、液体墨水、电场分布及射流形成过程，标注重力 + 压力、表面张力、电场力等关键作用力）

跨分辨率微纳打印系列 AlphaLab

AlphaLab 系列基于超高精度 EHD 与高精度气动电流体双技术路径，覆盖从基础研发到工业生产的全场景需求，通过四轴精密控制、多模式打印切换与可视化操作，实现从微米到纳米级的精准打印。

1.Alpha Lite - 高粘度材料打印专家

聚焦高粘度材料打印痛点，将气动推进技术进行优化，以高性价比实现银浆、高分子材料、水凝胶等难打印材料的精准沉积，是柔性电子与微器件制造的低成本解决方案。

核心优势

• 专攻高粘度材料：完美适配导电银浆、绝缘树脂、水凝胶等，打印线宽优于传统气动点胶

• 精密三轴控制：XY 定位精度 ±30μm，移动速度      200mm/s，兼顾精度与效率

• 200×200mm 真空吸附平台：适配 PET、硅片等刚性 / 柔性基底，样品零变形

• 高精度压力调节（-100~+500kPa）：确保高粘度材料出墨顺畅，线条均匀无断点

• 简化操作逻辑：电压、气压、运动、视觉统一控制界面，4X 光学观测系统实时监控

• 多喷嘴兼容：支持不锈钢 + 陶瓷喷嘴、标准点胶喷嘴，灵活适配不同材料特性

2. AlphaLab Air — 高性价比入门之选

核心优势：

• 超高精度 EHD打印，不同口径针尖适配不同精度需求

• 三轴平台 XY 定位精度 ±10μm，双 Z 轴设计兼顾稳定性与打印精度

• 200×200mm 微孔钛真空吸附平台，兼容柔性与刚性基底（支持 8 英寸硅片）

• 三相机光学系统（20X/6X/2X），打印过程实时观测与针尖全自动校准

• 0-4kVp-p 多波形高压输出，-100~+500kPa      气压调节，适配高低粘度材料

适用场景：高校实验室基础研发、中小企业批量生产、柔性电子原型制作

3. AlphaLab Pro — 高精度研发旗舰

核心优势：

• 集成 EHD、气动电流体、电流体喷涂、静电纺丝四模式，一站式满足多场景需求

• XY 定位精度 ±4μm、移动分辨率 0.5μm，打印模块 Z 轴精度 ±1μm，细节把控更精准

• 四相机光学系统（双 500 万像素主相机），AR 辅助叠层对位打印，多层结构精准对齐

• 标配工控机与光学阻尼隔振平台，工业级稳定性保障连续打印质量

• 支持 DXF、BMP 文件导入与软件内图形绘制，路径规划灵活高效

适用场景：高端研发机构、精密器件制造、光电显示核心部件生产

4. AlphaLab Ultra — 顶尖精度工业级设备

核心优势：

• XY 定位精度 ±0.5μm、移动分辨率 0.1μm，打印模块 Z 轴精度 ±0.5μm，实现超高精度的打印应用场景

• 0-6kVp-p 高压输出与      -100 ~ +900kPa 气压调节，适配更广泛材料粘度范围

• 双 1200 万像素主相机，超大视野与超高放大倍数兼顾，打印细节实时追踪

• 标配高性能工控机与光学气浮隔振平台，极致抑制环境干扰

• 打印后原位表征功能，无需转移即可完成样品检测，提升研发效率

适用场景：半导体芯片制造、微纳传感器量产、高端柔性电子工业生产

应用方向：

• 多层按键贴片灯电路（导电银浆 / 绝缘树脂 / 导电银浆结构，基底：PET）

• 传感器线路（高粘度有机聚合物，基底：硅片）

• 柔性导电电路（导电银浆，基底：PET）

技术案例

1. TFT 导电结构打印

• 应用场景：半导体显示面板核心部件

• 打印参数：EHD 模式，纳米银墨水，硅片 / 聚合物薄膜基底

• 核心效果：线宽精准控制在 1-5μm，导电性能稳定

2. 柔性电路制备

• 应用场景：可穿戴设备、柔性传感器

• 打印参数：高精度气动电流体模式，导电银浆，PDMS 柔性基底

• 核心效果：线路边缘粗糙度≤5μm，弯曲 1000 次后导电性能衰减 <      3%

3. 聚合物点阵列打印

• 应用场景：微纳传感器、生物芯片

• 打印参数：EHD 模式，高粘度聚合物，聚酰亚胺基底

• 核心效果：点径均匀性 CV≤2%，阵列间距精度 ±1μm，满足精密器件装配需求

4. ZnO 功能薄膜制备

• 应用场景：光电探测、半导体器件

• 打印参数：电流体喷涂模式，ZnO 前驱体墨水，石英玻璃基底

• 核心效果：薄膜厚度均匀性 ±5%，透光率≥85%

5. 多层按键贴片灯电路

• 应用场景：消费电子按键、微型照明器件

• 导电银浆 / 绝缘树脂，PET 基底

• 核心效果：实现 “导电 - 绝缘 - 导电” 三层结构一体化打印，层间对齐精度 ±10μm，适配批量生产

我们的优势：

1. 技术领先：基于 EHD 核心技术与专利协同驱动机制，非接触式打印避免样品损伤，精度对标国际顶尖水平

2. 多场景适配：从低粘度生物墨水到高粘度银浆（1-1.000,000cPs），从实验室研发到工业量产，全场景覆盖

3. 高性价比：以亲民价格提供工业级性能，材料利用率≥95%，大幅降低微纳制造门槛

4. 操作便捷：全自动对焦、针尖校准、AR 对位等功能，新手也能快速上手

5. 客户认可：对接服务多个头部企业，通过严苛工业环境验证